在晶圆制造过程中，光刻胶烘烤或外延生长过程中产生的热偏差，不仅会影响生产效率，还会降低产品的良率。因此，需要将热量精确地施加到工艺要求的位置上，且这一过程需要持续重复进行。
技术上的关键点 我们的外延生长用红外灯能够发出快速、定向的能量，且具有出色的控制精度。短波红外线能够有效传递到薄膜和晶圆表面，从而实现亚秒级的响应速度以及快速的冷却效果。在照明区域内，晶圆表面的温度均匀性可保持在±0.1°C以内，而经过数千次循环后，其重复精度仍能保持在几度以内。 这类灯体适合在1-100级洁净室环境中使用，其材质经过特殊处理，不会释放颗粒物。其输出功率在5,000小时以上的时间里仍能保持稳定，功率下降幅度不到5%，这样一来，工艺过程中的温度控制就能更加精准。
为何它能发挥如此好的作用 在晶圆干燥、光刻胶的软烘烤和硬烘烤、封装过程中的固化处理以及清洗后的干燥过程中，都需要稳定且高效的加热方式。这类灯能够迅速达到设定温度，同时不会超出设定值，之后又能立即停止工作。这样就能有效减少对晶圆表面结构及薄膜的应力影响。 其好处体现在：光刻过程的良率更高，因固化不彻底而造成的废品率更低，而且工艺周期更短，同时还能满足各项规格要求。此外，由于能量是按需提供的，所以能源消耗也会降低。
需要注意的事项 这类灯体积小但功率高，因此必须做好设备接口处的热管理。需要确保灯体与设备的尺寸相匹配，同时还要确保光学对准准确，另外，电源和冷却系统也必须与设备的负载需求相匹配。 安装后需要一段时间来让设备达到稳定状态。一旦稳定下来，就可以开始正常的工艺流程了。