エピタキシャル加熱用赤外線ランプ

製造現場において、フォトレジストの焼成やエピタキシャル成長の過程で生じる温度変動は、単に生産効率を低下させるだけではありません。それによって歩留まりも悪化します。工程手順に従って、正確な場所に熱を供給することが不可欠です。 技術的に重要な点 当社のエピタキシャル成長用赤外線ランプは、高速かつ方向性...