近赤外線 NIR ウェーハ乾燥装置

ファブの現場では、ウェーハ上での温度変動が0.1°Cでもあれば、重要な寸法がナノメートル単位で変わってしまいます。また、粒子数も増加してしまいます。通常のホットプレートや対流式オーブンでは、ソフトベイクやハードベイクの過程で温度の均一性を保つのが難しく、ガス放出やレジストの表面問題が発生しやすくな...