Di fasilitas produksi, perubahan suhu selama proses pemanasan fotoresist sebesar 1°C saja sudah cukup untuk mengubah lebar garis pada permukaan wafer. Siklus pengeringan yang tidak merata? Itulah penyebab munculnya “watermark” yang merusak kualitas wafer. Kami menggunakan sistem pemanasan terpusat di fasilitas produksi wafer canggih, agar perubahan suhu tersebut dapat dicegah sejak awal.
Apa yang benar-benar penting secara teknis? Kami menggunakan kontrol zona yang independen, dengan bantuan teknologi halogen atau NIR. Dengan cara ini, kestabilan suhu di setiap bagian wafer dapat dipertahankan dalam rentang ±0,1°C selama proses berlangsung. Peralatan tersebut ditempatkan di ruang bersih kelas 1–100, sehingga tidak ada partikel yang masuk ke dalamnya. Hal ini dibuktikan melalui pemantauan secara langsung dan penggunaan bahan-bahan yang memiliki kemampuan pelepasan gas yang rendah.
Keandalan proses tetap terjaga berkat adanya sensor loop tertutup dan sistem kontrol yang memastikan bahwa kondisi termal tetap konstan. Proses pemanasan, pengeringan, dan pengerasan dilakukan dengan cara yang serupa setiap kali proses berlangsung. Penggunaan energi juga berkurang, karena hanya bagian yang membutuhkan pemanasan saja yang dipanaskan, dan pola pemanasan tetap konsisten tanpa adanya penyimpangan.
Mengapa hal ini penting? Dalam proses litografi, sistem pemanasan terpusat membantu menjaga suhu pemanasan fotoresist tetap stabil, sehingga viskositas dan profil lapisan fotoresist tetap konsisten. Dengan demikian, kontrol ketepatan ukuran wafer pun tetap baik.
Untuk proses pembersihan dan pengeringan wafer, kontrol zona panas/dingin yang independen membantu menghilangkan gelembung air dan “watermark” yang muncul di permukaan wafer. Proses pengeringan pun berlangsung lebih cepat, tanpa adanya efek kejut termal.
Dalam proses pengemasan, sistem ini membantu melakukan proses pengerasan yang cepat dan merata pada bahan underfill dan encapsulant. Waktu proses pun berkurang, sementara kualitas hasil produksi tetap terjaga. Akibatnya, jumlah barang cacat berkurang, kontrol kualitas menjadi lebih baik, dan kapasitas produksi pun meningkat.
Apa yang perlu Anda ketahui terlebih dahulu? Untuk memasang sistem pemanasan terpusat ke fasilitas produksi yang sudah ada, diperlukan penyesuaian geometri ruang produksi, komponen-komponen kwartzo, serta sistem ventilasi. Anda perlu menyediakan waktu yang cukup untuk integrasi sistem tersebut serta kalibrasinya.
Anda perlu mengorbankan sedikit ruang produksi demi adanya kontrol zona tambahan dan sensor-sensor tersebut. Namun, hasilnya adalah kontrol termal yang lebih baik, serta waktu operasional yang lebih efisien.