Di area produksi, perubahan suhu sebesar 0,1°C pada wafer saja sudah cukup untuk mengakibatkan perubahan dimensi kritis pada wafer tersebut, bahkan hingga tingkat nanometer. Hal ini tentu akan meningkatkan jumlah partikel yang ada di wafer tersebut. Pemanas konvensional dan oven konvektif kesulitan mencapai keseragaman suhu selama proses pemanasan, sehingga dapat menyebabkan masalah seperti pelepasan gas atau masalah terkait lapisan resisten. Itulah mengapa digunakan alat pengering wafer berbasis gelombang inframerah dekat (NIR): untuk mengatasi kendala-kendala tersebut.
Hal-hal yang penting secara teknis:
NIR memanaskan wafer secara langsung, bukan ruangan tempat wafer berada. Dengan demikian, keseragaman suhu pada wafer dapat dicapai dalam rentang ±0,1°C di area 300 mm, dengan waktu respons yang sangat cepat. Selain itu, kontrol terhadap kondisi termal juga lebih baik. Profil fotoresten tetap konsisten dari satu batch ke batch lainnya, dan profil pemanasan tetap stabil meski ukuran batch berubah. Sistem ini dirancang untuk digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dengan tidak adanya partikel di titik kontak antara wafer dan alat pemanas. Keandalan sistem ini diukur dari waktu operasionalnya yang bisa mencapai 24/7 tanpa henti, serta masa pakai pemanas yang jauh melebihi siklus penggantian yang biasanya dilakukan setiap tiga bulan sekali.
Inilah mengapa NIR cocok digunakan dalam proses litografi. Anda membutuhkan proses pemanasan yang konsisten agar pelarut dapat dikeluarkan dengan baik, serta proses pemanasan yang dapat diprediksi agar lapisan resisten tidak meleleh. NIR memberikan konsistensi tersebut, dengan suhu yang stabil, waktu proses yang lebih singkat, dan konsumsi energi yang lebih rendah per wafer. Hasilnya adalah proses yang lebih efektif: lebih sedikit produk gagal, kontrol dimensi yang lebih baik, dan penggunaan bahan baku yang lebih efisien. NIR juga cocok digunakan untuk node-proses yang kompleks, di mana margin termal sangat sempit dan setiap perubahan suhu sangat berpengaruh.
Beberapa hal praktis sebelum memilih NIR:
NIR membutuhkan pandangan langsung ke wafer dan jalur refleksi yang terkontrol. Oleh karena itu, desain sistem harus memperhitungkan geometri penanganan wafer, terutama jika menggunakan wadah berlapis-lapis yang bisa menghalangi sinar pemanas. Anda juga membutuhkan sumber daya listrik yang bersih, dengan fluktuasi tegangan yang terkontrol, agar stabilitas spektrum tetap terjaga. Setelah syarat-syarat tersebut terpenuhi, alat pengering NIR akan berfungsi dengan baik. Jangan abaikan langkah-langkah pendahuluan ini.