Üretim alanında, wafer üzerindeki 0,1°C’lik bir sıcaklık değişimi bile kritik boyutları nanometrelerce değiştirebilir; bu da parçacık sayısının artmasına neden olur. Geleneksel ısıtıcılar ve konveksiyon fırınları, yumuşak pişirme ve sert pişirme işlemlerinde termal homojenliği sağlamakta zorlanır; bu da gaz salınımı veya direnç tabakasıyla ilgili sorunlara yol açar. İşte bu yüzden yakın kızılötesi (NIR) wafer kurutucuları geliştirildi: Bu özel sorunu çözmek için.
Teknik olarak önemli olanlar NIR, odanın kendisini değil, doğrudan waferi ısıtır. Böylece 300 mm boyutundaki wafer üzerinde ±0,1°C gibi yüksek bir homojenlik elde edilir; yanıt süresi saniyeler civarındadır ve termal kontrol daha da iyileştirilmiştir. Foto direnç profilleri her parti için tekrarlanabilir olur ve parti büyüklükleri değişse bile pişirme parametreleri sabit kalır. Sistem, Temiz Oda Sınıfı 1–100 için tasarlanmıştır; temas noktasında hiçbir parçacık oluşmaz ve atık gazlar işlem bölgesinden uzaklaştırılır. Buradaki güvenilirlik, arızasız 24/7 çalışma süresi ve ısıtıcıların genellikle üç ayda bir değiştirilmesi gereken süreden çok daha uzun süre kullanılabilmesiyle ölçülür.
Litografi işlemlerinde bunun neden işe yaradığı şudur: Çözücünün düzgün şekilde uzaklaştırılması için tutarlı bir yumuşak pişirme işlemine ihtiyaç vardır; ayrıca direnç tabakasının yeniden erimeye uğramadan sabitlenmesi için öngörülebilir bir sert pişirme işlemi gereklidir. NIR, hızlı sıcaklık düzenlemesi, daha kısa işlem süreleri ve wafer başına daha düşük enerji tüketimi ile bu tutarlılığı sağlar. Sonuç olarak, daha az yeniden işlem gerekiyor, CD kontrolü daha iyi oluyor ve termal heterojenlikten kaynaklanan atıklar azalıyor. Ayrıca, termal marjların dar olduğu ileri düzey işlemlerde de kullanılabilir.
Özellikleri belirlemeden önce dikkat edilmesi gereken birkaç nokta var: NIR’in wafer’e doğrudan bakış açısına ihtiyacı vardır ve kontrollü bir yansıma yolu gereklidir. Bu yüzden entegrasyon sırasında waferin yerleştirilme şekli dikkate alınmalıdır; özellikle ışınları engelleyebilecek çok katmanlı yapılar göz önünde bulundurulmalıdır. Ayrıca, spektral stabiliteyi korumak için temiz ve dalga boyları kontrol altında olan bir güç kaynağı gereklidir. Bu koşullar sağlandığında, kurutucu basit bir ısıtma cihazı olarak çalışır. Ancak başlangıçtaki düzenlemelerin doğru yapılması şarttır; bu adım atlanmamalıdır.