Üretim alanında, fotoresistin ısıtılması sırasındaki veya epitaksi işlemi sırasındaki termal değişiklikler, sadece üretim hızını etkilemekle kalmaz; aynı zamanda ürün kalitesini de düşürür. Sürecin gerektirdiği yerde, her döngüde doğru miktarda ısı uygulanmalıdır.
Teknik Açıdan Önemli Olanlar
Epitaksi işlemleri için kullanılan kızılötesi lambalar, hızlı ve yönlendirilmiş enerji üretir ve bu enerjinin kontrolü oldukça iyidir. Kısa dalga boylu kızılötesi ışınlar, ince filmelerin ve wafer yüzeyinin içine etkili bir şekilde nüfuz eder; böylece milisaniyeler içinde tepki alınır ve hızlı bir soğuma gerçekleşir. Aydınlatılan bölgede waferin sıcaklık homojenliği ±0,1°C civarında kalır ve binlerce döngü boyunca tekrarlanabilirlik birkaç derece içinde kalır.
Lamba gövdesi, Class 1–100 ortamları için uygundur; düşük gaz salınımı yapan malzemelerden yapılmıştır ve parçacık üretmeyen bir tasarıma sahiptir. Lambanın verimi 5.000 saatten fazla süre boyunca %5’ten az bir düşüşle sabit kalır; böylece termal durumda herhangi bir değişiklik olmaz.
Neden İşe Yarıyor?
Bu ihtiyaç, waferin kurutulması, fotoresistin ısıtılması, paketleme işlemleri ve temizlik sonrası kurutma işlemlerinde de ortaya çıkar: Hızlı ve temiz bir şekilde ısı sağlamak gerekiyor. Bu lambalar belirlenen sıcaklığa hızlıca ulaşır, aşırı ısınma olmadan o sıcaklığı korur ve ardından temiz bir şekilde kapanır. Böylece desenler ve filmler üzerindeki termal stres azalır.
Bunun sonucunda litografi işlemlerinde daha yüksek verim elde edilir, eksik kuruma nedeniyle oluşan atıklar azalır ve proses süreleri düşer. Ayrıca, enerji tüketimi de azalır; çünkü enerji talep edildiğinde ve minimum beklemeli kayıpla sağlanır.
Bilinmesi Gerekenler
Bu lambalar kompakt ve yüksek güçlüdür; bu nedenle lambanın montaj noktasındaki termal yönetim çok önemlidir. Lambanın gövdesi ve tabanı, cihazın yapısal özelliklerine uygun olmalıdır. Optik hizalanmanın doğru olduğundan emin olunmalı ve güç kaynağı ile soğutma sisteminin de proses koşullarına uygun olduğundan emin olunmalıdır.
Montajdan sonra kısa bir ısıtma süresi gerekmektedir. Bu süre sona erdikten sonra proses devam edebilir.