
Op de productielijn heeft thermische afwijkingen tijdens het verhitten van de fotoresist of tijdens het epitaxisproces niet alleen invloed op de productiecapaciteit. Ze leiden ook tot meer afval. Er is behoefte aan warmte die precies op de plek terechtkomt waar dat nodig is – cyclus na cyclus.
Wat technisch belangrijk is Onze infraroodlampen voor epitaxis zorgen voor snelle, gerichte energiestromen met nauwkeurige controle. De kortegolflengte-infraroodstraling dringt efficiënt door in dunne lagen en op het oppervlak van de wafer. Hierdoor wordt er binnen een paar seconden reactie gegeven en kan de wafer snel afkoelen. In het verlichte gebied blijft de temperatuur op het niveau van de wafer binnen ±0,1°C. De herhaalbaarheid blijft bovendien binnen een paar graden, zelfs na duizenden cycli.
Het lichtbuisje is geschikt voor gebruik in steriele omgevingen van klasse 1–100. Het is gemaakt van materialen die weinig gassen afgeven en heeft een ontwerp dat geen deeltjes vrijmaakt. De uitgangssterkte blijft stabiel gedurende meer dan 5.000 uur, met minder dan 5% daling. Hierdoor blijft het thermische budget constant.
Waarom dit werkt Deze behoefte doet zich steeds weer voor: bij het drogen van de wafer, bij het verhitten van de fotoresist, bij het verharden van de coating en bij het drogen na het schoonmaken. Er is behoefte aan voorspelbare warmte die snel en schoon wordt geleverd. Deze lampen bereiken snel het gewenste temperatuurniveau, houden dit niveau vast en stoppen daarna met het leveren van warmte. Dit vermindert de thermische belasting op de lagen en structuren op de wafer.
Het voordeel is dat de productiecapaciteit toeneemt, er minder afval is en de cyclustijden korter worden, zonder dat de specificaties worden overschreden. Ook de energieverbruik neemt af, omdat de energie alleen wordt geleverd wanneer dit nodig is, met minimale verliezen.
Wat je moet weten Deze lampen zijn compact en zeer krachtig. Daarom is het belangrijk om goed om te gaan met de thermische maniering rondom de lampen. Zorg ervoor dat de lampen passen in de apparatuur en dat de optische alignering correct is. Verder moet de stroomvoorziening en koeling goed aangepast zijn aan het gebruik.
Na de installatie is er een korte periode van stabilisatie nodig. Eenmaal gestabiliseerd, kan het proces beginnen en blijft dit zo.