Berhenti menunggu pemanas tradisional: Mengapa IR lebih baik daripada sistem pengudaraan paksa dalam proses pemprosesan wafer
Jika anda pernah bekerja dalam bidang pemprosesan semikonduktor, pasti anda tahu betapa menyebalkannya perlu menunggu. Kebanyakan kita sudah biasa menggunakan sistem pengudaraan paksa. Kita menggunakan udara panas untuk memanaskan permukaan wafer, tetapi proses ini sangat lambat. Kita perlu menunggu udara menjadi panas, dan kemudian menunggu lagi agar haba tersebut dapat meresap ke dalam silikon. Ia sama seperti menunggu cat kering, sementara waktu produksi terus berjalan.
Rahsianya adalah dengan mengelakkan penggunaan udara sebagai medium pemanasan. Dengan penggunaan haba IR, kita tidak perlu bergantung pada udara. Kita menggunakan radiasi elektromagnetik untuk memanaskan permukaan wafer secara langsung. Proses ini berlaku pada kelajuan cahaya. Anda tidak perlu menunggu bilik pemanas menjadi panas. Cukup hidupkan suis, dan wafer akan menyerap tenaga tersebut serta-merta.
Bagi seorang jurutera, ini merupakan kelebihan yang besar. Jika sistem pengudaraan tradisional memerlukan sepuluh minit untuk mencapai suhu yang stabil, sistem IR boleh melakukannya dalam beberapa saat sahaja. Ini bermakna anda dapat menjimatkan banyak masa.
Mengekalkan suhu yang stabil
Sudah tentu, kelajuan bukanlah segalanya jika ia tidak dapat dikawal. Tiada siapa yang mahu wafer rosak akibat peningkatan suhu secara tiba-tiba. Itulah sebabnya kita menggunakan sensor IR untuk memantau suhu permukaan wafer secara real-time. Sistem ini akan menyesuaikan kuasa pemanasan mengikut keperluan. Dengan cara ini, segala-galanya akan berjalan lancar. Dalam bidang ini, perubahan suhu sebanyak 5 darjah pun boleh merosakkan hasil kerja. Oleh itu, adanya sistem keselamatan ini sangat penting.
Dan sebagai tambahan? Ruang yang diperlukan juga berkurangan. Anda boleh buang alat pemanas yang berat dan saluran udara yang memenuhi separuh ruangan tersebut.
Kelemahan
Namun, IR bukanlah penyelesaian yang sempurna. Ia mempunyai kelemahan tersendiri: ia hanya berfungsi dalam arah tertentu sahaja. Udara panas akan menyelimuti permukaan wafer, tetapi IR hanya berfungsi dalam garis pandangan yang jelas. Jika wafer mempunyai bentuk yang kompleks atau ia terdiri daripada beberapa lapisan, maka akan timbul kawasan yang sejuk. Anda perlu memastikan lampu diposisikan dengan betul dan reflektor disusun dengan tepat. Jika penempatan tidak betul, wafer akan rosak. Walaupun memerlukan perancangan yang teliti, namun kelajuan yang diperoleh membalas usaha tersebut.