Cessez d’attendre que vos systèmes de chauffage fassent leur travail : pourquoi l’éclairage par rayonnement infrarouge est supérieur aux systèmes à air forcé dans le traitement des wafer
Si vous avez déjà travaillé dans le domaine du traitement des semi-conducteurs, vous connaissez bien cette frustration liée à l’attente. La plupart d’entre nous sont habitués aux systèmes à air forcé : on souffle de l’air chaud sur une surface, en espérant que cela suffise. Mais le problème, c’est que ce processus est lent. Il faut attendre que l’air devienne chaud, puis encore attendre que cette chaleur pénètre dans le silicium. C’est comme attendre que la peinture sèche, pendant que le temps de production continue de s’écouler…
Le secret, c’est d’éviter l’intermédiaire.
Avec l’éclairage par rayonnement infrarouge, on ne travaille pas avec de l’air. On utilise des radiations électromagnétiques pour chauffer directement la surface du wafer. Le processus se déroule à la vitesse de la lumière. Il n’y a pas besoin d’attendre que la chambre se réchauffe ; il suffit d’allumer l’appareil, et le wafer absorbe immédiatement l’énergie.
Pour un ingénieur, c’est un véritable avantage. Si votre système à air forcé met dix minutes pour se stabiliser, un système à rayonnement infrarouge peut généralement le faire en quelques secondes seulement. C’est énormément de temps gagné.
Maintenir une température constante
Bien sûr, la vitesse peut être un problème si on ne peut pas la contrôler. Personne ne veut que son lot de produits soit endommagé à cause d’une augmentation brutale de la température. C’est pourquoi nous utilisons des capteurs infrarouges pour surveiller en temps réel la température de la surface. Le système ajuste automatiquement la puissance de chauffage. Ainsi, tout reste stable. Dans ce domaine, une variation de 5 degrés peut tout ruiner ; donc avoir cette sécurité est vraiment utile.
Et en plus ? Espace gagné ! Vous pouvez vous débarrasser de ces ventilateurs encombrants et de tous ces tuyaux qui occupent souvent la moitié de la pièce.
Les limites
Mais ce n’est pas de la magie. L’éclairage par rayonnement infrarouge a une particularité : il est directionnel. L’air chaud entoure une pièce comme une couverture, mais les rayons infrarouges suivent une ligne droite. Si votre wafer a une forme complexe ou si vous travaillez avec plusieurs pièces superposées, il y aura des zones froides. Il faut donc bien planifier l’emplacement des lampes et l’angle des réflecteurs. Si l’alignement n’est pas correct, le wafer peut se déformer. Il faut un peu plus de planification au début, mais une fois que l’alignement est parfait, la vitesse de chauffage compense amplement cet effort.