<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>(NIR) on Warm IR Patio Comfort</title>
		<link>http://warm-ir-patio-comfort.com/vi/tags/nir/</link>
		<description>Recent content in (NIR) on Warm IR Patio Comfort</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 01:13:42 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-patio-comfort.com/vi/tags/nir/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Máy sấy wafer bằng ánh sáng hồng ngoại gần</title>
				<link>http://warm-ir-patio-comfort.com/vi/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 01:13:42 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-patio-comfort.com/vi/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-patio-comfort.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Máy sấy wafer bằng ánh sáng hồng ngoại gần&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;Trong&lt;/a&gt; quy trình sản xuất, sự chênh lệch nhiệt độ chỉ 0,1°C trên bề mặt wafer cũng có thể khiến kích thước của wafer thay đổi vài &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;nanomet&lt;/a&gt; – điều này dẫn đến sự gia tăng số lượng hạt bụi trên bề mặt wafer. Các lò nung thông thường gặp khó khăn trong việc duy trì độ đồng đều về nhiệt độ trong quá trình nung, dẫn đến các vấn đề như thoát khí hoặc biến dạng bề mặt wafer. Đó chính là lý do tại sao máy sấy wafer bằng bức xạ hồng ngoại gần được phát triển: để giải quyết những hạn chế này.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
