<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Bánh Wafer on Warm IR Patio Comfort</title>
		<link>http://warm-ir-patio-comfort.com/vi/tags/b%C3%A1nh-wafer/</link>
		<description>Recent content in Bánh Wafer on Warm IR Patio Comfort</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 03 Jun 2026 01:16:22 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-patio-comfort.com/vi/tags/b%C3%A1nh-wafer/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Khoảng cách an toàn cho việc nung tấm wafer</title>
				<link>http://warm-ir-patio-comfort.com/vi/posts/safety-distance-for-wafer-heating/</link>
				<pubDate>Wed, 03 Jun 2026 01:16:22 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-patio-comfort.com/vi/posts/safety-distance-for-wafer-heating/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-patio-comfort.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Khoảng cách an toàn cho việc nung tấm wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Trên sàn lithography, một wafer 300mm chứa hàng nghìn die, và từng giây đều tính vào ngân sách nhiệt. Một chu trình soft bake chỉ lệch 0,3°C cũng có thể làm thay đổi kích thước quan trọng, trong khi một chu trình hard bake quá nóng ở mép sẽ bắt đầu xuất hiện hiện tượng scumming. Khoảng cách an toàn cho việc gia nhiệt wafer không phải là biên độ an toàn mà là ranh giới giữ cho tỷ lệ sản phẩm đạt chuẩn không bị giảm sút.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
