Gelişmiş yonga üretim tesisleri için bölgesel ısıtma
Üretim tesislerinde, foto direnç malzemesinin ısıtılma sırasında 1°C’lik bir değişiklik bile çizgi genişliklerinde değişikliklere neden olabilir....
Yakın kızılötesi (NIR) wafer kurutucu
Üretim alanında, wafer üzerindeki 0,1°C’lik bir sıcaklık değişimi bile kritik boyutları nanometrelerce değiştirebilir; bu da parçacık sayısının...
Waferler için kızılötesi kuvars lambası
Üretim alanında işler böyle yürür. Foto direnç malzemesinin ısıtılmasında kullanılan parametrelerde meydana gelen en ufak bir değişiklik bile,...
Esnek elektronik yonga ısıtıcısı
Hattın dışında, o esnek elektronik yonga, çizgi genişliğini kontrol etmek için gerekli olan sıcak işlemi bekliyor. Sıcaklıktaki birkaç ondalık...