Нагреватель уровня ваферной платы CSP (пакет микросхемы)

Fri, 19 Jun 2026 02:00:40 +0800

На производственных линиях качество изделий часто зависит от температуры. Даже небольшое изменение температуры во время обработки фоторезиста может привести к ошибкам в ширине линий, которые сохраняются даже после процедур эчинга и нанесения слоев. В технологии CSP на уровне wafer та же самая температурная стабильность необходима для правильной обработки материалов и процесса плавления сварочного метала. Необходимо, чтобы тепло поступало периодически, цикл за циклом, без изменения температуры в определенной зоне.

Вот что имеет техническое значение: Мы разработали нагреватель для технологии CSP с высокой точностью контроля температуры: стабильность температуры на уровне ±0,1°C и однородность температуры по всей поверхности wafer. Для этого используются инфракрасные элементы и зоны нагрева, изолированные кварцем. Система подходит для использования в чистых комнатах класса 1–100; используются материалы с низким уровнем выделения газов, а камера остается герметичной, что позволяет сохранять стабильный уровень частиц в воздухе. Отсутствие частиц — это не просто слоган, а цель дизайна. Каждая зона контролируется с помощью системы замкнутого цикла, что позволяет точно контролировать процессы нагрева и высыхания.

Лабораторная сушилка на чипе

Thu, 04 Jun 2026 00:41:23 +0800

На литографическом этаже вы знаете, как это бывает. Колебание температуры менее 1°C во время мягкого запекания может незаметно привести к ошибке ширины линии, которая проявляется только при метрологии. Тот же тепловой дрейф может превратить сушку пластин в проблему с частицами и дефектами. Мы создали Lab-on-a-Chip Drying Heater, чтобы остановить этот дрейф в самом начале.

Что важно с технической точки зрения
Платформа основана на коротковолновом инфракрасном излучении, обеспечиваемом массивом кварцево-галогенных излучателей. Пирометрия с замкнутым контуром поддерживает тепловую однородность на уровне пластин с точностью ±0,1°C по активной зоне. Повторяемость температуры от партии к партии составляет ±0,2°C, что обеспечивает стабильность профиля запекания фоторезиста.
Устройство готово к использованию в чистых помещениях классов 1–100: поверхности камеры из нержавеющей стали 316L, материалы с рейтингом FM4910 и ламинарный поток воздуха, который исключает генерацию частиц во время цикла. Нагреватель интегрируется с SECS/GEM и работает круглосуточно, среднее время наработки на отказ превышает 10 000 часов, срок службы излучателей более 5 000 часов.

Чип on Warm IR Patio Comfort

Нагреватель уровня ваферной платы CSP (пакет микросхемы)

Лабораторная сушилка на чипе