<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>(НИР) on Warm IR Patio Comfort</title>
		<link>http://warm-ir-patio-comfort.com/ru/tags/%D0%BD%D0%B8%D1%80/</link>
		<description>Recent content in (НИР) on Warm IR Patio Comfort</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 01:13:42 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-patio-comfort.com/ru/tags/%D0%BD%D0%B8%D1%80/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Сушилка для пластин в диапазоне ближнего инфракрасного излучения (NIR)</title>
				<link>http://warm-ir-patio-comfort.com/ru/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 01:13:42 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-patio-comfort.com/ru/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-patio-comfort.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Сушилка для пластин в диапазоне ближнего инфракрасного излучения (NIR)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На производственной площадке даже небольшое изменение температуры в размере 0,1°C может привести к смещению критических размеров чипа на несколько нанометров. Это, в свою очередь, приводит к увеличению количества частиц на поверхности чипа. Обычные нагревательные устройства и конвекционные печи неспособны обеспечить стабильную температуру в процессе обработки чипов без появления проблем, связанных с выделением газов или повреждением поверхности чипа. Именно поэтому была создана сушильная установка с использованием длин волн ближнего инфракрасного излучения: для решения именно этих проблем.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
