Запчасти для обработки вафер онлайн
На производственной линии даже небольшое отклонение температуры в полградуса может превратить идеально сформированный узор в бесполезный мусор....
Зонированное отопление для современных заводов по производству пластин
На производственных линиях изменение температуры во время обработки фотополимера на 1°C уже достаточно для того, чтобы изменить ширину линий на...
Сушилка для пластин в диапазоне ближнего инфракрасного излучения (NIR)
На производственной площадке даже небольшое изменение температуры в размере 0,1°C может привести к смещению критических размеров чипа на несколько...
Нагреватель для пластин с гибкой электроникой
На производственной линии этот пластинчатый элемент гибкой электроники ожидает процедуры тепловой обработки, которая позволяет контролировать толщину...
Нагреватель уровня ваферной платы CSP (пакет микросхемы)
На производственных линиях качество изделий часто зависит от температуры. Даже небольшое изменение температуры во время обработки фоторезиста может...
Безопасное расстояние для нагрева подложек
На литографическом участке 300-мм пластина содержит тысячи кристаллов, и каждая секунда учитывается в тепловом бюджете. Мягкий прогрев с отклонением...