Lâmpada infravermelha para aquecimento em epitaxia

Sat, 27 Jun 2026 01:13:47 +0800

Na linha de produção, a variação térmica durante o processo de secagem do fotoreversível ou durante a etapa de epitaxia não afeta apenas a velocidade de produção. Ela também reduz a taxa de sucesso do processo. É necessário que o calor seja aplicado exatamente onde o processo exige – ciclo após ciclo.

O que é importante tecnicamente As lâmpadas infravermelhas utilizadas para aquecimento na epitaxia emitem energia direcionada e rápida, com controle preciso. As ondas infravermelhas de curta frequência penetram eficientemente nos filmes finos e na superfície da wafer, permitindo uma resposta em poucos segundos e um resfriamento rápido. Na área iluminada, a uniformidade da temperatura da wafer fica dentro de ±0,1°C, e a reprodutibilidade permanece estável, mesmo após milhares de ciclos.

Epitaxia on Warm IR Patio Comfort

Lâmpada infravermelha para aquecimento em epitaxia