<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Tingkat on Warm IR Patio Comfort</title>
		<link>http://warm-ir-patio-comfort.com/ms/tags/tingkat/</link>
		<description>Recent content in Tingkat on Warm IR Patio Comfort</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 19 Jun 2026 02:00:40 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-patio-comfort.com/ms/tags/tingkat/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas jenis Wafer Level CSP (Chip Scale Package)</title>
				<link>http://warm-ir-patio-comfort.com/ms/posts/wafer-level-csp-chip-scale-package-heater/</link>
				<pubDate>Fri, 19 Jun 2026 02:00:40 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-patio-comfort.com/ms/posts/wafer-level-csp-chip-scale-package-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-patio-comfort.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Pemanas jenis Wafer Level CSP (Chip Scale Package)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di fasiliti pengeluaran, &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;kualiti&lt;/a&gt; produk sering ditentukan oleh suhu. Perubahan suhu sebanyak setengah darjah semasa proses pembakaran bahan fotoresist boleh menyebabkan kesilapan pada lebar garisan yang terbentuk, dan kesilapan ini akan kekal walaupun selepas proses etching dan deposition. Dalam proses CSP pada peringkat wafer pula, faktor suhu yang sama mempengaruhi proses pengeringan bahan dan peleburan pelindung logam. Yang diperlukan ialah haba yang berterusan, dari satu kitaran ke kitaran yang lain, tanpa perubahan pada titik suhu tersebut.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
