http://warm-ir-patio-comfort.com/ms/tags/pengering-rambu/ Recent content in Pengering Rambu on Warm IR Patio Comfort Hugo ms Wed, 15 Jul 2026 13:49:42 +0800 http://warm-ir-patio-comfort.com/ms/posts/digital-infrared-dryer-controller/ Wed, 15 Jul 2026 13:49:42 +0800 http://warm-ir-patio-comfort.com/ms/posts/digital-infrared-dryer-controller/ <p><img src="http://warm-ir-patio-comfort.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Kawalan pengering inframerah digital"></p> <h1 id="mengelakkan-kerosakan-tiub-kuarsa-semasa-proses-pengeringan-wafer">Mengelakkan Kerosakan Tiub Kuarsa Semasa Proses Pengeringan Wafer</h1> <p><a href="https://henruite.com">Sejujurnya</a>, apabila mentol inframerah pecah semasa proses pembuatan wafer, ia bukan sekadar masalah penyelenggaraan biasa. Ia merupakan situasi yang sangat buruk. Serpihan kaca dan gas halogen akan jatuh terus ke atas wafer tersebut. Dengan sekali letupan sahaja, keseluruhan batch wafer menjadi tidak berguna. Itulah sebabnya kami sangat memperhatikan cara pembinaan pengawal digital IR dan komponen lampu tersebut. Kami ingin memastikan agar perkara seperti ini tidak berlaku sama sekali.</p> http://warm-ir-patio-comfort.com/ms/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/ Fri, 26 Jun 2026 01:13:42 +0800 http://warm-ir-patio-comfort.com/ms/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/ <p><img src="http://warm-ir-patio-comfort.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png" alt="Pengering wafer berfrekuensi inframerah dekat (NIR)"></p> <p>Di kilang pengeluaran wafer, perubahan suhu sebanyak 0.1°C pada permukaan wafer boleh menyebabkan perubahan dimensi kritikal wafer tersebut dalam skala nano. Ini seterusnya akan meningkatkan jumlah zarah di permukaan wafer. Ketuhar biasa sukar untuk mengekalkan suhu yang seragam semasa proses pemanasan, sehingga menyebabkan masalah seperti pelepasan gas atau masalah berkaitan lapisan pelindung wafer. Inilah sebabnya mengapa pengering wafer berbasis teknologi inframerah dekat (NIR) dicipta: untuk mengatasi masalah tersebut.</p> <p><strong>Apa yang penting dari segi teknikal:</strong><br> NIR memanaskan wafer secara langsung, bukan seluruh bilik pemprosesan. Ini membolehkan suhu wafer kekal seragam dalam lingkungan ±0.1°C pada keluasan 300 mm. Respons sistem sangat cepat, dan kawalan suhu juga lebih baik. Profil lapisan pelindung wafer dapat dipertahankan dengan konsisten dari satu batch ke batch yang lain, walaupun saiz batch berubah. Sistem ini direka untuk digunakan dalam ruang bersih kelas 1–100, dengan tiada penghasilan zarah di titik sentuhan antara wafer dan sistem pemprosesan. Kebolehpercayaan sistem ini diukur melalui masa operasi yang panjang—24/7 tanpa gangguan, dan jangka hayat pemanas yang melebihi jangka masa penggantian biasa.</p>