<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>(NIR) on Warm IR Patio Comfort</title>
		<link>http://warm-ir-patio-comfort.com/ms/tags/nir/</link>
		<description>Recent content in (NIR) on Warm IR Patio Comfort</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 01:13:42 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-patio-comfort.com/ms/tags/nir/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pengering wafer berfrekuensi inframerah dekat (NIR)</title>
				<link>http://warm-ir-patio-comfort.com/ms/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 01:13:42 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-patio-comfort.com/ms/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-patio-comfort.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Pengering wafer berfrekuensi inframerah dekat (NIR)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di kilang pengeluaran wafer, perubahan suhu sebanyak 0.1°C pada permukaan wafer boleh menyebabkan perubahan dimensi kritikal wafer tersebut dalam skala nano. Ini seterusnya akan meningkatkan jumlah zarah di permukaan wafer. Ketuhar biasa sukar untuk mengekalkan suhu yang seragam semasa proses pemanasan, sehingga menyebabkan masalah seperti pelepasan gas atau masalah berkaitan lapisan pelindung wafer. Inilah sebabnya mengapa pengering wafer berbasis teknologi inframerah dekat (NIR) dicipta: untuk mengatasi masalah tersebut.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dari segi teknikal:&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;NIR memanaskan wafer secara langsung, bukan seluruh bilik pemprosesan. Ini membolehkan suhu wafer kekal seragam dalam lingkungan ±0.1°C pada keluasan 300 mm. Respons sistem sangat cepat, dan kawalan suhu juga lebih baik. Profil lapisan pelindung wafer dapat dipertahankan dengan konsisten dari satu batch ke batch yang lain, walaupun saiz batch berubah. Sistem ini direka untuk digunakan dalam ruang bersih kelas 1–100, dengan tiada penghasilan zarah di titik sentuhan antara wafer dan sistem pemprosesan. Kebolehpercayaan sistem ini diukur melalui masa operasi yang panjang—24/7 tanpa gangguan, dan jangka hayat pemanas yang melebihi jangka masa penggantian biasa.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
