Asciugatore per wafer a infrarossi vicini (NIR)

Fri, 26 Jun 2026 01:13:42 +0800

Nelle linee di produzione, una variazione di temperatura di 0,1°C sul wafer può causare cambiamenti nelle dimensioni critiche dello stesso, in termini di nanometri; inoltre, ciò comporta un aumento del numero di particelle presenti sul wafer. I tradizionali forni a calore uniforme hanno difficoltà a mantenere una temperatura costante durante i processi di essiccazione, senza che si verifichino problemi legati all’evaporazione dei gas o alla formazione di uno strato protettivo sulla superficie del wafer. Ecco perché è stato creato il secchiatore per wafer a raggi infrarossi vicini: per risolvere proprio questi problemi.

(NIR) on Warm IR Patio Comfort

Asciugatore per wafer a infrarossi vicini (NIR)