Riscaldatore per wafer di elettronica flessibile

Mon, 22 Jun 2026 18:48:41 +0800

Sull’ linea di produzione, quel wafer elettronico flessibile attende il processo di cottura necessario per stabilire il controllo delle dimensioni dei lineamenti sul wafer stesso. Una variazione di temperatura di pochi decimi di grado è sufficiente per alterare le caratteristiche del fotorester; di conseguenza, il prodotto finale potrebbe presentare difetti nascosti. Abbiamo progettato un riscaldatore apposito per eliminare questa variabilità.

Cosa è importante nel funzionamento del sistema
Utilizziamo radiazioni infrarosse a breve lunghezza d’onda, provenienti da una sorgente a base di quarzo e ioduro, con controllo in ciclo chiuso. In questo modo, si riesce a mantenere l’uniformità della temperatura su tutto l’area attiva del wafer entro i ±0,1°C. La ripetibilità tra una fase di cottura e l’altra è inferiore a ±0,05°C, quindi ogni fase di cottura produce risultati identici alle precedenti. La zona di riscaldamento è progettata per essere utilizzata in ambienti puliti di classe 1–100; i materiali e le superfici utilizzate sono scelti per evitare la formazione di particelle durante il funzionamento regolare del sistema. I processi di cottura vengono eseguiti con un preciso controllo termico, e il sistema registra ogni fase di cottura per garantire tracciabilità totale.

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Riscaldatore per wafer di elettronica flessibile