<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>(NIR) on Warm IR Patio Comfort</title>
		<link>http://warm-ir-patio-comfort.com/id/tags/nir/</link>
		<description>Recent content in (NIR) on Warm IR Patio Comfort</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 01:13:42 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-patio-comfort.com/id/tags/nir/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pengering wafer berbasis sinar inframerah dekat (NIR)</title>
				<link>http://warm-ir-patio-comfort.com/id/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 01:13:42 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-patio-comfort.com/id/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-patio-comfort.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Pengering wafer berbasis sinar inframerah dekat (NIR)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di area produksi, perubahan suhu sebesar 0,1°C pada wafer saja sudah cukup untuk mengakibatkan perubahan dimensi kritis pada wafer tersebut, bahkan hingga tingkat nanometer. Hal ini tentu akan meningkatkan jumlah partikel yang ada di wafer tersebut. Pemanas konvensional dan oven konvektif kesulitan mencapai keseragaman suhu selama proses pemanasan, sehingga dapat menyebabkan masalah seperti pelepasan gas atau masalah terkait lapisan resisten. Itulah mengapa digunakan alat pengering wafer berbasis gelombang inframerah dekat (NIR): untuk mengatasi kendala-kendala tersebut.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
