Lampe infrarouge étanche pour rinçage

Sat, 20 Jun 2026 01:50:08 +0800

Sur la table humide, c’est durant l’étape de rinçage que le rendement diminue progressivement. Un point froid ou une température inégale pendant le séchage assisté par le rinçage ? C’est ainsi que surviennent des marques d’eau, des particules qui collent au wafer, ainsi qu’une tension sur le photo-résistant impossible à contrôler. Ce dont on a besoin, c’est d’une chaleur précise, localisée et constante.

Précision du chauffage infrarouge : uniformité et répétabilité au niveau du sub-millimètre Nous utilisons des lampes infrarouges étanches qui génèrent un champ thermique stable, avec une précision au niveau du sub-millimètre. Ainsi, la température du wafer reste conforme au profil prévu, étape après étape. Les ondes infrarouges à courte longueur d’onde permettent un chauffage rapide, avec une faible masse thermique, ce qui assure un contrôle précis. Les chiffres le confirment : une uniformité au niveau du wafer de ±0,1 °C, et une répétabilité entre les différents lots de production.

Lampe infrarouge SRD (Spin Rinse Dryer)

Tue, 02 Jun 2026 03:42:10 +0800

Sur le plancher de fabrication, le cycle SRD est l’étape où le rendement se fait — ou se perd silencieusement. Un rinçage qui laisse des micro-gouttelettes, ou un séchage qui induit des contraintes sur la plaquette, se traduit par des défauts et du rebut. Cette lampe infrarouge dans votre Spin Rinse Dryer n’est pas qu’une source de chaleur. C’est l’actionneur thermique qui détermine la limite de séchage. Si la puissance varie ou que l’uniformité se dégrade, la répétabilité indispensable en lithographie et traitement de photoresist perd toute fiabilité.

Rincer on Warm IR Patio Comfort

Lampe infrarouge étanche pour rinçage

Lampe infrarouge SRD (Spin Rinse Dryer)