<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>(NIR) on Warm IR Patio Comfort</title>
		<link>http://warm-ir-patio-comfort.com/fr/tags/nir/</link>
		<description>Recent content in (NIR) on Warm IR Patio Comfort</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fr</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 01:13:42 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-patio-comfort.com/fr/tags/nir/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Sécheur de wafers en infrarouge proche (NIR)</title>
				<link>http://warm-ir-patio-comfort.com/fr/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 01:13:42 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-patio-comfort.com/fr/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-patio-comfort.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Sécheur de wafers en infrarouge proche (NIR)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Dans l’atelier de fabrication, une variation de 0,1°C sur la température de la puce peut entraîner des variations de quelques nanomètres dans ses dimensions critiques. Cela peut également augmenter le nombre de particules présentes sur la puce. Les plaques chauffantes et les fours à convection &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;classiques&lt;/a&gt; ont du mal à maintenir une homogénéité thermique pendant les processus de cuisson, ce qui provoque des problèmes tels que des émissions de gaz ou des défauts sur la surface de la puce. C’est précisément pour résoudre ces problèmes que le séchoir à ondes infrarouges proches a été développé.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
