Lámpara infrarroja de calentamiento por epitaxia

Sat, 27 Jun 2026 01:13:47 +0800

En la planta de fabricación, la deriva térmica durante el proceso de secado del fotopolímero o durante las fases de epitaxia no solo afecta negativamente la eficiencia del proceso, sino que también reduce el rendimiento final del producto. Es necesario que el calor llegue exactamente donde lo exige el procedimiento, ciclo tras ciclo.

Lo que es importante desde el punto de vista técnico Las lámparas infrarrojas utilizadas en procesos de epitaxia emiten energía de forma rápida y dirigida, con un control preciso. Las ondas infrarrojas de corta longitud penetran eficientemente en las películas finas y en la superficie de los wafer, lo que permite una respuesta rápida y un enfriamiento rápido. En toda la zona iluminada, la uniformidad de temperatura se mantiene dentro de ±0.1°C, y la repetibilidad se mantiene dentro de unos pocos grados a lo largo de miles de ciclos.

Epitalia on Warm IR Patio Comfort

Lámpara infrarroja de calentamiento por epitaxia