Nahe infraroter (NIR) Wafer Trockner

Fri, 26 Jun 2026 01:13:42 +0800

In der Fertigungshalle kann eine Temperaturabweichung von 0,1 °C auf der Wafer-Oberfläche dazu führen, dass kritische Abmessungen um Nanometer verändert werden – und dadurch steigt die Anzahl der Partikel auf der Wafer-Oberfläche an. Herkömmliche Heizplatten sowie Konvektionsöfen haben Schwierigkeiten, eine gleichmäßige Temperatur während des Trocknungsprozesses zu gewährleisten – ohne dass es zu Problemen wie Ausgasungen oder Unregelmäßigkeiten im Resistfilm kommt. Genau deshalb wurde der Near-Infrared-Wafer-Trockner entwickelt: um dieses Problem zu lösen.

Was technisch wichtig ist: Der Near-Infrared-Trockner erwärmt die Wafer direkt, nicht den gesamten Behälter. Dadurch entsteht eine Temperaturgleichmäßigkeit von ±0,1 °C über eine Fläche von 300 mm. Zudem erfolgt die Erwärmung in kürzester Zeit, und es ist möglich, den Wärmeeintrag präziser zu steuern. Die Profile des Photoresists bleiben dabei von Charge zu Charge konstant, und auch bei Veränderungen der Chargengröße bleibt das Trocknungsverhalten stabil. Das System ist für Reinräume der Klassen 1–100 geeignet – es entstehen keine Partikel am Kontaktpunkt, und die Entlüftung sorgt dafür, dass Verunreinigungen nicht in den Prozessbereich gelangen. Die Zuverlässigkeit wird durch einen 24/7-Betrieb ohne unplanmäßige Stopps sowie durch eine lange Lebensdauer der Heizelemente ausgedrückt – diese halten deutlich länger als der übliche vierteljährliche Austauschzyklus.

(NIR) on Warm IR Patio Comfort

Nahe infraroter (NIR) Wafer Trockner