Zonales Heizen für fortschrittliche Waferfabriken

Sun, 28 Jun 2026 01:14:52 +0800

In den Fertigungsanlagen reicht bereits eine Schwankung von 1 °C beim Trocknen des Fotolacks aus, um die Dicke der Schichten zu verändern. Ein ungleichmäßiger Trocknungsprozess führt wiederum zu „Watermarks“, die die Produktqualität beeinträchtigen. Deshalb nutzen wir in modernen Wafer-Fertigungsanlagen zonales Heizen, um solche Schwankungen schon frühzeitig zu verhindern.

Was technisch wirklich wichtig ist:
Wir nutzen unabhängige Zonensteuerung mit Halogen- oder NIR-Technologie, um eine Homogenität auf Waferebene von ±0,1 °C innerhalb des gesamten Prozesses zu gewährleisten. Die Hardware befindet sich in Reinräumen der Klasse 1–100 – ohne dass Partikel entstehen. Dies wird durch kontinuierliche Überwachung sowie Materialien mit geringer Ausgasung sichergestellt. Die Wiederholgenauigkeit bleibt dabei konstant, da geschlossene Regelkreise und präzise Steuerungsmethoden dafür sorgen, dass die thermischen Bedingungen konstant bleiben. Energieverbrauch wird ebenfalls reduziert: Die jeweiligen Zonen heizen nur das, was benötigt wird – außerdem wiederholen sich die Temperaturprofile immer wieder exakt.

Gegliedert on Warm IR Patio Comfort

Zonales Heizen für fortschrittliche Waferfabriken