Máy sấy wafer bằng ánh sáng hồng ngoại gần

Trong quy trình sản xuất, sự chênh lệch nhiệt độ chỉ 0,1°C trên bề mặt wafer cũng có thể khiến kích thước của wafer thay đổi vài nanomet – điều này...