Berhentilah menunggu proses pemanasan menggunakan alat pemanas konvensional: Mengapa IR lebih unggul daripada cara tradisional
Saya masih melihat banyak sekali proses produksi semikonduktor yang masih mengandalkan metode pemanasan menggunakan udara panas. Itu merupakan cara kerja yang kuno, dan sejujurnya, cara ini sangat membuang-buang waktu.
Yang menjadi masalah utama adalah waktu penundaan dalam proses pemanasan. Udara sama sekali tidak efektif untuk mentransfer panas. Anda harus menunggu beberapa menit agar suhu substrat mencapai tingkat yang diinginkan. Padahal, seharusnya Anda bisa memanaskan bahan tersebut secara langsung. Ini merupakan pemborosan waktu yang besar.
Cara cepat untuk mempercepat proses pemanasan
Pemanasan menggunakan sinar inframerah (IR) dapat mengatasi masalah ini. Alih-alih menggunakan udara untuk memanaskan bahan, sinar IR langsung mentransfer energi ke bahan tersebut. Ini seperti perbedaan antara menunggu ruangan menjadi hangat dan langsung berada di bawah sinar matahari. Dengan menggunakan IR, waktu penundaan berkurang drastis—dari menit menjadi detik saja. Hal ini sangat bermanfaat ketika Anda harus memproses batch produk dalam jumlah besar. Anda tidak hanya menghemat biaya listrik, tetapi juga waktu yang diperlukan untuk proses pemanasan.
Jangan biarkan kabel-kabel Anda meleleh
Masalahnya adalah, pemanas IR menghasilkan suhu yang sangat tinggi, dan panas tersebut ditransfer secara terfokus. Jika Anda menggunakan kabel PVC atau silikon biasa, kabel tersebut akan meleleh atau mengeluarkan gas berbahaya. Hal ini tentu tidak diinginkan di ruang kerja yang bersih. Itulah mengapa kami menggunakan kabel yang dilapisi Teflon (PTFE). Kabel jenis ini mampu menahan panas tanpa rusak, dan tidak terpengaruh oleh uap kimia yang ada selama proses etching atau deposisi.
Kekurangan penggunaan IR
IR bukanlah solusi ajaib. Anda tidak bisa begitu saja mengganti alat pemanas konvensional dengan IR saja. Karena IR bekerja berdasarkan prinsip garis pandang, Anda perlu memastikan posisi lampu IR tepat. Jika posisinya salah, maka akan ada area yang kurang dipanaskan pada wafer. Selain itu, karena panas yang dihasilkan sangat cepat, Anda berisiko mengalami gangguan termal jika proses pemanasan berlangsung terlalu cepat. Anda perlu menggunakan kontroler PID yang baik agar suhu tidak melebihi batas yang ditentukan.
Jika Anda sedang merencanakan pembangunan jalur produksi baru, IR merupakan pilihan yang tepat. Metode ini dapat menghilangkan hambatan akibat keterlambatan proses pemanasan. Pastikan saja untuk menggunakan kabel PTFE agar kabel tersebut tidak rusak setelah beberapa bulan digunakan.